日企开发出1/10电量制造1.4纳米半导体的技术 - FT中文网
登录×
电子邮件/用户名
密码
记住我
请输入邮箱和密码进行绑定操作:
请输入手机号码,通过短信验证(目前仅支持中国大陆地区的手机号):
请您阅读我们的用户注册协议隐私权保护政策,点击下方按钮即视为您接受。
日经中文网精选

日企开发出1/10电量制造1.4纳米半导体的技术

佳能的“纳米压印(Nanoimprint )”制造装置采用类似盖印章的方式在晶圆上制作电路。

大日本印刷(DNP)开发出了能以十分之一的耗电量生产先进半导体的技术。将面向佳能生产的新方式制造装置,于2027年量产可支持新一代1.4纳米(1纳米为十亿分之一米)产品的核心构件。人工智能(AI)半导体的制造成本有大幅降低的可能性。

目前,要量产最先进的半导体,需要使用全球只有荷兰阿斯麦控股(ASML Holdings)生产的极紫外(EUV)光刻机。在晶圆(基板)上绘制电路的“光刻工序”占半导体总制造成本的3至5成。电路越精细,光刻次数就越多,耗电量也随之增加。一台EUV光刻机的价格为300亿日元左右,给半导体厂商带来沉重的投资负担。

而佳能的“纳米压印(Nanoimprint )”制造装置采用类似盖印章的方式在晶圆上制作电路。DNP开发出了相当于精细印章的电路原版“模板(template)” ,最高可用于1.4纳米制程。此前该技术无法支持2纳米等先进半导体的制造。

继续阅读请点击这里,进入日经中文网

日本经济新闻社与金融时报2015年11月合并成为同一家媒体集团。同样于19世纪创刊的日本和英国的两家报社形成的同盟正以“高品质、最强大的经济新闻学”为旗帜,推进共同特辑等广泛领域的协作。此次,作为其中的一环,两家报社的中文网之间实现文章互换。

版权声明:本文版权归FT中文网所有,未经允许任何单位或个人不得转载,复制或以任何其他方式使用本文全部或部分,侵权必究。

投资者仍低估通胀风险

在各国经济接近产能上限之际,强大力量似乎将再次点燃增长。

我们以前见过吗?

亚里士多德可以帮助解释我们对几乎一无所知之人的强烈“拟社会”情感。

通胀:信任稀缺

另外,特朗普和委内瑞拉。

印度谋求与中国海军一较高下

为制衡北京在印度洋日益强势的姿态,新德里正着力提升其海上实力。

欧盟预算改革即将引发的博弈

成员国开启为期两年的磋商,就支出优先事项展开拉锯之际,外界对该集团的相关性日益生疑。

扎克伯格动荡中的AI豪赌内幕

一年间的内乱、摇摆不定的优先事项与巨额开支,让Meta的内部人士与投资者都人心不安。
设置字号×
最小
较小
默认
较大
最大
分享×